El proceso de desarrollo de la placa de circuito impreso.
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El revelado es una técnica basada en reacciones químicas que se utiliza para fabricar placas de circuito impreso (PCB). En el proceso de fabricación de la placa de circuito impreso, primero se diseña y presenta el patrón del circuito, luego se cubre la resistencia óptica en la lámina de cobre y se graba el patrón del circuito deseado en la lámina de cobre a través del proceso de exposición y revelado.
El principio del revelado de una placa de circuito impreso es utilizar productos químicos en la solución de revelado para corroer la capa de cobre expuesta en la superficie de la placa, lo que permite que se presente el patrón. El revelador más utilizado es una solución alcalina cloro-férrica, cuya ecuación química es:
Cu más 2FeCl3 más 2NaOH → Cu(OH)2↓ más 2NaCl más 2Fe(OH)3↓
Durante el proceso de revelado, el revelador reacciona con la capa de cobre para producir gas hidrógeno e iones de cloruro de cobre. Se libera gas hidrógeno y los iones de cloruro de cobre se reducen a hidróxido de cobre. Estos cambios químicos finalmente dan como resultado el agotamiento del oxígeno en la solución de revelado y la terminación del proceso de revelado.
Durante el revelado, las áreas expuestas del fotoprotector frontal se solidificarán y las áreas no expuestas se disolverán. Por lo tanto, se necesita un revelador químico para ayudar a eliminar la fotorresistencia no expuesta, dejando solo el patrón de circuito deseado.
Hay dos tipos de reveladores comúnmente usados para placas de circuito impreso:
1. Revelador alcalino: el componente principal es el hidróxido de sodio, utilizado para eliminar la fotorresistencia no expuesta. Pero este desarrollador necesita usar limpieza con agua pura, en el proceso de uso debe prestar atención al valor de PH, de lo contrario, afectará la calidad de la placa de circuito impreso.
2. Revelador ácido: el revelador ácido se compone principalmente de ácido sulfúrico, peróxido de hidrógeno y otros componentes, que pueden disolver rápidamente la fotorresistencia no expuesta. Pero el uso de reveladores ácidos debe ser seguro, ya que el ácido sulfúrico es muy corrosivo, debe realizarse en un laboratorio profesional o en un laboratorio químico.
Nota:
1. La solución de revelador debe almacenarse en un lugar fresco, seco y ventilado, y debe estar alejada de fuentes de fuego y luz solar directa.
2. Equípese con equipo de protección personal como guantes protectores, gafas protectoras y una máscara de respiración.
3. Verifique si el contenedor está intacto antes de usarlo para evitar fugas.
4. Debe mezclarse de acuerdo con la proporción de la guía y agitarse bien antes de usar.
5. Se debe prestar atención a la temperatura y el tiempo en el proceso de desarrollo.
El revelador se recubre uniformemente en la superficie de la placa de circuito impreso remojándolo, rociándolo, cepillando, etc. El tiempo que el revelador permanece en la placa de circuito impreso se ajusta luego de acuerdo con los requisitos de espesor. A medida que aumenta el tiempo de revelado, la resistencia a la luz de la exposición sin curar es cada vez menor y el patrón del circuito en la placa es cada vez más evidente.
Finalmente, el revelador utilizado en el proceso de revelado debe enjuagarse completamente y la superficie de la placa debe secarse con un solvente de secado rápido. A través del paso de desarrollo, se puede hacer una placa de conexión de componentes electrónicos y una placa de circuito impreso claramente visibles.
En la fabricación de la placa de circuito impreso existirá un desarrollo impuro, en este momento debemos considerar desde los siguientes aspectos:
1. Precocine a una temperatura demasiado alta o durante demasiado tiempo
2. La energía de exposición es demasiado alta y el grado de vacío no es suficiente
3. Resistencia de la película insuficiente
4. Parámetros de desarrollo inadecuados
5. Temperatura y humedad de la habitación sin polvo
6. Tiempo de residencia desde la serigrafía de texto hasta el prehorneado de la placa de circuito.
